La silicona d'escuma antistatica es una mena de material foncional amb d'elasticitat e de proprietats conductivas/antistaticas, que se basa sus l'efièch sinergic de la composicion del material e de l'estructura porosa.
La performància anti-estatica es principalament atenguda en incorporant de farciments conductors dins lo cauchó compausat. Aquestes farciments incluson de materials conductors dins la matriça de silicona, tipicament de materials a basa de carbòni-, de polveras de metal e de tensioactius. De materials a basa de carbòni coma lo negre de carbòni, los nanotubos de carbòni, e lo grafèn, amb de polveras de metal coma l'argent e lo niquèl (e mai se lo darrièr es mai car). Los tensioactius son generalament d'additius ionics que forman de vias conductritz en adsorbant l'umiditat. Aquestes farciments crean una ret conductritz, permetent a la silicona isolanta a l'origina de conduire l'electricitat. Via de dissipacion de carga Quand de cargas estaticas son generadas per la friccion de superfícia, la ret conductritz dispersa rapidament las cargas de manièra unifòrma, en empachant l'acumulacion localizada. La resisténcia de superfícia es tipicament contrarotlada entre 10^6 a 10^10 Ω, çò qu'empacha eficaçament la descarga electrostatica (DEE) sens causar de corts circuits a causa d'una conductivitat excessiva.
En segond luòc, l'estructura d'escuma mòstra d'efièches de renfòrç sinergistics. L'arquitectura micro-porosa del gel de silicona escumat optimiza mai la performància anti-estatica: Aumenta la superfícia e la soplesa, del temps que l'estructura cellulara rend lo material mai leugièr e mai sople, facilitant l'adesion a de superfícias irregularas (per exemple, l'embalatge de compausants electronics). La superfícia porosa redusís l'airal de contacte de friccion, minimizant aital la generacion d'electricitat estatica a la font. Optimizacion topologica de la ret conductritz: Pendent l'escuma, los farciments conductors tendon a s'agregar sus las parets cellularas, formant una estructura de ret 3D que melhora l'eficiéncia de disipacion de carga. L'estructura cellulara adsorbís tanben de traças d'umiditat, facilitant l'eficacitat dels agents antiestatics ionics.